Prozessingenieur*in (w/m/d) - Halbleiter-Prozesstechnologie / Lithografie – 27/25

Das Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) ist eine anwendungsorientierte Forschungseinrichtung auf den Gebieten der Hochfrequenzelektronik, Photonik und Quantenphysik. Das FBH erforscht elektronische und optische Komponenten, Module und Systeme auf der Basis von Verbindungshalbleitern. Diese sind Schlüsselbausteine für Innovationen in den gesellschaftlichen Bedarfsfeldern Kommunikation, Energie, Gesundheit und Mobilität. Es verfügt über die gesamte Wertschöpfungskette vom Design bis zu lieferfertigen Systemen.

In der Abteilung Prozesstechnologie suchen wir zum nächstmöglichen Zeitpunkt eine*n Prozessingenieur*in (w/m/d) – Halbleiter-Prozesstechnologie / Lithografie.

Kennziffer 27/25

• Entwicklung und Optimierung komplexer Prozesse der Elektronenstrahl- und Fotolithografie für unterschiedliche Bauelementprozesse auf Basis von Verbindungshalbleitern
• Konzeption und Erstellung von Belichtungsprogrammen, Aufbereitung der Daten sowie Charakterisierung, Quantifizierung und Dokumentation der Ergebnisse
• Verantwortung für die Prozesspflege sowie die Neu- und Weiterentwicklung von Lithografieprozessen und Beitrag zur Entwicklung und Verbesserung der Bauelemente; Übernahme von Verantwortung bei Qualifikation und Weiterentwicklung von Fertigungstechnologien
• Durchführung von Prozessschritten zur Wafer-Bearbeitung an automatisierter und manueller Anlagentechnik, schwerpunktmäßig im Bereich der Lithografie
• quantitative Charakterisierung der Ergebnisse, Erkennung, Dokumentation und Analyse qualitätsrelevanter Abweichungen sowie Erarbeitung von Lösungsvorschlägen
• Übernahme der Verantwortung für einzelne Anlagen und Sicherstellung einer hohen Anlagenverfügbarkeit; Organisation und Durchführung regelmäßiger Inspektions-, Wartungs-, Pflege- und Reparaturarbeiten sowie eigenständige Lösung kleinerer technischer Anlagenprobleme
• Entwicklung von Strategien zur Überwachung von Prozessen und des technischen Zustands von Anlagen in der Lithografie, um eine hohe Anlagen- und Prozessverfügbarkeit zu gewährleisten
• aktive Mitwirkung bei der Fertigung z. B. von modernen Diodenlasern für Weltraumanwendungen oder von Leistungsbauelementen für zukünftige Mobilfunkstandards oder hocheffiziente Energiewandler sowie Beteiligung an der Erarbeitung neuer Methoden zur Fertigung von quantenelektronischen Bauteilen

• technischer Hochschulabschluss in den Bereichen Chemie, Physik, Mikrosystemtechnik, Materialwissenschaften oder vergleichbaren Fachrichtungen
• fundierte Kenntnisse und praktische Erfahrungen in einem oder mehreren der folgenden Bereiche:
• Kenntnisse zu Prozessen und Anlagen für die Fertigung von Halbleiterbauelementen
• Erfahrungen in der lithografischen Strukturierung von Halbleitern
• Umgang mit Mess- und Analysetechnik zur Charakterisierung von Oberflächen, Mikro- und Nanostrukturen
• besondere Kenntnisse zur Anlagenprogrammierung z.B. für Elektronenstrahl- bzw. Waferstepper-Belichtungen sind wünschenswert
• Kenntnisse zu Computer- und IT-Technik (Windows, Unix, Netzwerktechnik o.ä.), zu höheren Programmiersprachen sowie zur Erstellung von Dienstprogrammen (VBA-Makro-Code o.ä.) sind wünschenswert
• hohes Maß an Eigeninitiative, technisches Verständnis und Geschick bei präparativer Laborarbeit sowie eine ausgeprägte analytische und lösungsorientierte Arbeitsweise zur selbstständigen Problemlösung
• Kommunikationsstärke, Teamgeist und Begeisterung für technisch-wissenschaftliche Themen mit starkem Anwendungsbezug
• sicherer Umgang mit der deutschen Sprache sowie gute Englischkenntnisse, die eine teamübergreifende Arbeit mit Mitarbeiter*innen vieler Nationalitäten ermöglichen
• Erfüllung der Voraussetzungen für die Arbeit in Reinräume